2010. 5. 21. 01:11 인공와우
인공와우(CI) 자극방식 이해하기(2): BP방식(Bipolar)
지난 MP 방식에 이어서 두번째 BP 방식에 대해서 설명드리겠습니다. 앞으로 CG방식 만 남았습니다. 전부해서 3가지인데 공부하더라도 시간이 지나면 잊어버리게 되어 있습니다. 따라서 인공와우를 공부하시는 분들은 꼭 이해만 하고 넘어가시기 바랍니다. 공부나 학습은 반복하기만 하면 됩니다. 그러면 다음에 잠깐 훑어보시더라도 금방 기억이 나실 겁니다.
양극 자극(Bipolar: BP stimulation)
아래 그림을 보면 활성전극(Active electrode)과 기준전극(Indifferent electrode)이 모두 와우 내에 위치하기 때문에 전류의 흐름은 두 개의 활성전극에서 이루어 집니다. 자극형태에 따라 자극거리를 가깝게 하거나 멀게 조절할 수 있습니다. 따라서 활성과 기준전극 사이의 나선신경절세포(spiral ganglion cell)가 자극을 받게 됩니다.
1. 자극의 거리가 짧을수록: T와 C level에 도달하기 위해 더 많은 자극전류가 필요하며, 밧데리의 사용 용량이 증가하므로 T와 C level이 너무 높거나 정할 수 없으면, 자극거리가 넓은 BP를 선택하는 것이 좋습니다.
< BP mode 의 경우 활용 가능한 채널 수> 활성전극(Active E) 기준전극(Indifferent E) 채널 수 BP #13 #14 21 BP+1 #13 #15 20 BP+2 #13 #16 19
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요즘은 방식이 많이 바뀌었을 겁니다. 그런데 원리기 때문에 알고 계셔야 하는 부분일거구요. 감사합니다.
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